PlasmaX-Lab全能型实验等离子表面处理设备 | 高效精密表面工程解决方案

PlasmaX-Lab 全能型实验等离子表面处理设备

简介：

PlasmaX-Lab是一款专为精密表面工程设计的高端等离子表面处理设备，具备卓越的性能与灵活性，满足高精度处理要求。其450 x 300 x 300 mm的铝质构造反应舱配备可视窗口，提供40.5升的处理空间，适应广泛的实验需求。采用独特的二级等离子设计和水冷电极，确保处理过程中的均匀性和效率。

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产品介绍规格参数应用领域

产品介绍

PlasmaX-Lab全能型实验等离子表面处理设备，是一款专为精密表面工程设计的高端工具。其铝质构造的450 x 300 x 300mm反应舱配备可视窗口，提供40.5升的宽敞处理空间，支持大范围的实验需求。采用独特的二级等离子设计和水冷电极，PlasmaX-Lab保证了处理过程中的极致均匀性和效率，满足了高精度表面处理的严格要求。

该设备搭载高效的螺杆真空泵和精确的薄膜规真空计，能快速达到所需的处理环境，同时保证过程中的稳定性。其PLC控制系统通过触摸屏操作，提供自动化处理流程、精确监控和参数调整能力，大大提高了操作便利性和处理的可重复性。PlasmaX-Lab还支持双气体输入，配有先进的气体流量控制器和液体输入系统，确保了处理过程的灵活性和多样性。

此外，PlasmaX-Lab强调安全性能，配备急停开关以应对紧急情况，确保使用过程中的安全。其380V AC, 50HZ, 40A的电源需求，配合0~300W可调的频射发生器，使得该设备不仅适用于多种材料处理，同时也兼顾环保和能效。

PlasmaX-Lab 处理舱

PlasmaX-Lab 等离子放电观测

规格参数

反应舱	材料：特种铝，厚度：20 mm
	有效尺寸：450 x 300 x 300 mm
	容积：40.5升
	舱门：装有可视窗口
	电极：二级等离子设计，保证单层均匀性和层间均匀性。同时包含水冷电极。
	样品盘：1套，尺寸：350 x 250 mm
真空度测量	皮拉尼真空计+薄膜规真空计，保证真空度测量精度
真空泵	干泵：抽速：20至80立方米/小时可选
频射发生器	0~300W可调，MHz发生器
控制系统	触摸屏操作，PLC控制系统
	PLC可实现下列功能：
	自动控制反应过程；
	根据处理材料设定不同的处理工艺流程；
	测定真空度、抽真空时间、充气流速、处理时间、温度、频射发生器输入功率等指标；
	监测所有的运行指标，保证在设定范围之内；
	设定操作、维护密码。
电源	380V AC，50HZ，40A
反应气体	2个气体输入端口，含气体流量控制器（MFC）
气体输入	直径1/4”管道；输入压力：1Bar
液体输入	包含液态单体气化装置，可以设定液态单体流量，气化温度
工艺气体控制器	标配2路（最多可配置5路）
工艺单体输送器	标配1路，可选择超疏水单体或超亲水单体（可配置2路）
尾气排放	包含尾气输出端口
安全性能	急停开关

应用领域

设备功能：

─ 等离子清洗

─ 等离子活化

─ 等离子表面枝接

─ 等离子镀膜：超亲水镀膜，超疏水镀膜